(1)表面結(jié)晶性。晶體的功能依賴于結(jié)晶結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)遭到破壞會引起功能下降。因此，在加工單晶時(shí)，最重要的質(zhì)量指標(biāo)是不破壞表面的結(jié)晶性。藍(lán)寶石單晶( 1012)表面在100kV加速電壓下的反射電子衍射象。用各種方法拋光藍(lán)寶石單晶( 1012)面的試驗(yàn)結(jié)果表明，用8 μmSiC拋光的表面和用3 μm金剛石拋光的表面，其表面的結(jié)晶特性已遭破壞，而浮動(dòng)拋光面和化學(xué)拋光面均獲得明顯的菊池線，這就表明加工表面的結(jié)晶基本保持良好。腐蝕只有內(nèi)在的變形縮孔而加工不產(chǎn)生變形縮孔，說明單晶材料的浮動(dòng)拋光不產(chǎn)生塑性變形。拋光Mn - Zn鐵氧體單晶也得到同樣的效果。
 
(2)表面磁特性。磁性材料的磁特性不僅對組織結(jié)構(gòu)敏感，對應(yīng)力也很敏感。一旦加工表面有殘余應(yīng)力，磁特性就會發(fā)生變化。Mn - Zn鐵氧體環(huán)形工件的兩個(gè)平面用各種方法進(jìn)行加工后，發(fā)現(xiàn)浮動(dòng)拋光面顯示出有與化學(xué)腐蝕加工面同樣的磁特性，這說明其表面沒有殘余應(yīng)力。用Cr?O?拋光的表面下0.5μm深度有壓縮的殘余應(yīng)力，導(dǎo)致常溫下的起始導(dǎo)磁率降低到母材的60%左右。
 
(3)表面化學(xué)特性。在拋光過程中，拋光劑粒子元素侵入到工件最表層后，形成缺陷點(diǎn)。由于異質(zhì)元素的侵入，其周圍的結(jié)合力變?nèi)?。用不同種類的拋光劑進(jìn)行藍(lán)寶石單晶的拋光時(shí)，用IMA分析儀進(jìn)行表面元素分析，得知，在拋光面下1μm以內(nèi)，含有拋光劑的溝成元素，這顯然不是簡單的物理吸附現(xiàn)象。

 
用加工的方法不能去除這樣微小的缺陷。因侵入的元素種類與使用的拋光劑材質(zhì)有關(guān)；如果拋光劑的材料和純度選擇適宜，也不會發(fā)生異質(zhì)元素的侵入。例如，用Si02拋光SOS用的藍(lán)寶石基片，或用Zn0拋光用于光波導(dǎo)管的藍(lán)寶石基片。在拋光人造水晶或光學(xué)玻璃時(shí)，為徹底避免拋光中的污染，應(yīng)使用高純度Si0：微粒作為拋光劑。
 
化學(xué)腐蝕是一種無畸變的加工，但腐蝕加工后工件表面元素的濃度與基體內(nèi)部的濃度是不同的。浮動(dòng)拋光與化學(xué)腐蝕的表面元素濃度分布是類似的。因此，認(rèn)為浮動(dòng)拋光也是與化學(xué)腐蝕一樣的無畸變加工法。

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